【覓跡尋蹤潛力股】耀穎(圖形化光學擴散薄膜&乾溼混合快速去光阻)技術差異化成長策略?

《覓跡尋蹤潛力股"耀穎"興櫃系列》耀穎(圖形化光學擴散薄膜&乾溼混合快速去光阻)技術差異化成長策略? 根據耀穎114/12/26公開說明書提到研發成功(圖形化光學擴散薄膜&乾溼混合快速去光阻)技術 https://doc.twse.com.tw/server-java/t57sb01?step=1&colorchg=1&co_id=7772&year=&seamon=&mtype=B& 耀穎在圖形化光學擴散薄膜(Patterned Optical Diffusion Film)與乾溼混合快速去光阻(Dry-Wet Mixed Photoresist Stripping)技術布局，是在2026年穩坐(半導體光學整合代工)龍頭兩大核心策略。這兩項技術分別對應了(光學效果的微縮控制)與(高難度製程的良率保證)。耀穎差異化成長策略解析：㊀ 圖形化光學擴散薄膜(實現光學微縮與精準均勻)= 傳統擴散膜多為全平面覆蓋，用於均勻光源。耀穎**圖形化(Patterned)**策略將提升至半導體等級：⓵ 技術差異化：整合微透鏡(Micro-lens)與光學圖案耀穎利用Reflow(回焊)微透鏡技術(可製作3μm至50μm 的畫素)，在12吋晶圓或玻璃上精準蝕刻出特定形狀的擴散圖案。這讓光線不再是盲目擴散，而是根據感測器(如dToF或ALS)的像素位置，進行特定角度與區域的導光。⓶ 成長商機：AI眼鏡與高階感測器在AI AR眼鏡 中，光學模組需要在極小的空間內實現高亮度與低能量耗損。耀穎圖形化擴散技術能減少光溢散，將光線精準導向人眼或感測器。這使耀穎成功從傳統手機感測器跨入高階穿戴式顯示器供應鏈。㊁ 乾溼混合快速去光阻(攻克極高深寬比與特殊基材良率)= 在先進封裝(如TGV玻璃通孔)或多層光學鍍膜過程中，光阻的去除(Stripping)是影響良率的關鍵。耀穎採取**乾溼混合(Dry-Wet Mixed)**策略具備以下優勢：⓵ 技術差異化(兩階段精準清除)：❶ 乾式(Dry-Ashing)：先以電漿或氣相化學方式處理表面硬化層(Crust)。❷ 溼式(Wet-Chemical Cleaning)：再以特殊化學溶劑徹底溶解孔穴深處(如TGV內部)或微細圖案間的殘留物。⓶ 成長策略：解決(多層膜與深孔)痛點耀穎的多層光學鍍膜(有時高達數十層)會使光阻在多次熱製程後變得極難去除。這套混合製程能確保在1.6T矽光子模組的玻璃載板製作中，不損傷到底層昂貴的金屬種子層或脆弱的光學薄膜，從而實現高產速(High Throughput)與高良率的雙贏。㊂ 2026年戰略價值(一站式光電製程中樞)= 耀穎將這兩項技術結合，形成了一個封閉的製程優勢：⓵ 競爭維度-擴散膜加工：傳統光學廠-全面性貼合或塗佈。耀穎-晶圓級黃光蝕刻、圖案化微結構控制。⓶ 競爭維度-去光阻能力：傳統光學廠-單一溼式清洗(良率不穩)。耀穎-乾溼混合製程(針對12吋TGV與複雜膜層)。⓷ 競爭維度-應用領域：傳統光學廠-傳統背光、燈具。耀穎-AI伺服器光互連、LiDAR、高端生醫感測。⓸ 競爭維度-策略核心：傳統光學廠-零件生產。耀穎-解決方案整合。㊃ 總結(耀穎差異化優點)=耀穎不只是賣產品，而是賣良率。透過圖形化擴散薄膜，它解決了AI設備光學雜訊問題；透過乾溼混合快速去光阻，它解決了先進封裝的製程死角問題。這兩項技術的結合，讓耀穎在2026年1.6T矽光子模組開發中，具備了處理超複雜光電路徑的絕對發言權。關於耀穎光電(Morrison Optoelectronics) https://www.moe.com.tw/ 隸屬清隆企業集團 https://www.mor.com.tw/ 耀穎專注於光學鍍膜與半導體製程，以及各種創新的光學應用。主要服務項目精密光學元件，玻璃鍍膜及半導體光學在晶圓產品上鍍膜加工，各式客製化帶通濾光片、高階攝影機及監視器系統(CCD TV)之低通濾波器OLPF、紅外光吸收式濾光片、客製化鍍膜光譜設計等。半導體光學鍍膜=重要用途或功能-光感測器、屏下光學指紋辨識、藍芽耳機、醫療晶片。光學薄膜濾光片=重要用途或功能-專業相機模組、車用鏡頭模組、AR/VR。多頻譜濾光片=重要用途或功能-太空專用之影像處理。數位化梯度濾光片=重要用途或功能-半導體曝光機元件。後續值得追蹤留意。PS特別提醒:本分享文僅供參考，不具投資建議，請自行判斷買賣時機與承擔風險，並自負盈虧。